SiCrystal: Neubau für mehr SiC-Wafer-Produktionsfläche

SiCrystal wird im Nordosten Nürnbergs, direkt gegenüber dem bestehenden Standort ein neues Gebäude errichten. Es wird zusätzliche 6.000 Quadratmeter Produktionsfläche bieten und mit modernster Technologie für die Fertigung von Siliziumkarbid-Wafern ausgestattet sein.

Die Bauarbeiten sollen bis Anfang 2026 abgeschlossen sein. 2027 wird dann die Gesamtproduktionskapazität der Tochtergesellschaft der japanischen ROHM-Gruppe, einschließlich des bestehenden Gebäudes, etwa dreimal so hoch sein wie im Jahr 2024. (jr)

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