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Infineon: MOSFETs für 24 V- bis 72 V-Steuergeräte
Infineon präsentiert 60-V- und 120-V-OptiMOS 5 MOSFETs in TOLx-Gehäusen für 24 V- bis 72 V-Steuergeräte.
Transistoren
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Infineon: 1.200V-Trench-MOSFETs im TO263-7-Gehäuse
Die neuen Silziumkarbid-Bausteine bieten eine hohe Leistungsdichte und Effizienz bei gleichzeitiger Reduzierung der Systemkosten.
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Onsemi: 1200V-SiC-MOSFETs und -Module
Schnell schaltende MOSFETs und integrierte Halbbrücken-Leistungsmodule mit dem branchenweit niedrigsten RDS(on) pro Schaltposition in Standardgehäusen
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Infineon: Neue 40V-MOSFETs mit niedrigem Durchlasswiderstand
Die OptiMOS 7 40V MOSFET-Familie von Infineon kombiniert die 300-mm-Dünn-Wafer-Fertigung mit innovativem Packaging und bietet […]
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Toshiba: n-Kanal-MOSFETs mit verbesserter Wärmeableitung für höhere Ströme
Die 40 V-n-Kanal-MOSFETs XPQR3004PB und der XPQ1R004PB nutzen das L-TOGL-Gehäuse mit großen Transistorumrissen und Gull-Wing-Anschlüssen. Wegen der bessere Wärmeableitung des Gehäuses können die Leistungshalbleiter höhere Ströme handhaben.
Technologie-Radar
Forscher finden Technik zu Herstellung von Transistoren der nächsten Generation
MIT-Ingenieure züchten perfekte hauchdünne Materialien auf industriellen Siliziumwafern. Ihre Technik könnte es Chipherstellern ermöglichen, Transistoren der nächsten Generation auf der Grundlage anderer Materialien als Silizium herzustellen.