Wie der NDR berichtet, baut Vishay seinen Standort in Itzehoe aus. Am Montag wurde demnach der Grundstein für eine zweite Chipfabrik begonnen, in der 300mm-Wafer für Automobil-ICs – vornehmlich Leistungstransistoren – gefertigt werden sollen. Geplant sind etwa 150 neue Arbeitsplätze, für die bereits Mitarbeiter rekrutiert werden. Sie sollen ab 2025 oder 2026 mit der Serienproduktion beginnen. (jr)
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Die 2-nm-Prozesstechnologie von TSMC soll in der zweiten Hälfte des Jahres 2025 am Fab-Standort in Taiwan in die Volumenproduktion gehen.
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NXP: Joint Venture mit VIS für den Bau einer 300mm-Fab
Neue Fab produziert 130nm- bis 40nm-Mixed-Signal-, Power-Management- und Analogprodukte für den Automobil-, Industrie-, Verbraucher- und Mobilmarkt.
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Die Single-Line ESD-Schutzdiode VETH100A1DD1 im DFN1006-2B-Gehäuse ist weniger als 0,5 mm hoch und eignet sich besonders für Anwendungen mit begrenztem Platzangebot.