Technologie-Radar
Imec erzeugt Logik- und DRAM-Strukturen mit High NA EUV-Lithographie
Die Imec-Ergebnisse bestätigen, dass das High NA EUV-Strukturierungssystem für zukünftige Logik- und Speicheranwendungen geeignet ist. […]
High-NA-EUV-Lithographie