EUV-Spiegelinterferenzlithografie Archive - AEEmobility

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[ 24. September 2024 ] Folgen Sie uns auf LinkedIn Produkt-Highlight
[ 25. Dezember 2024 ] Studie: Innovation durch Kooperation Marktreport
[ 24. Dezember 2024 ] Nissan und Honda prüfen Fusionierung Branchen-News
[ 23. Dezember 2024 ] MIT-Ingenieure stapeln Chiplagen ohne trennende Silziumsubstrate Technologie-Radar
[ 23. Dezember 2024 ] AEEmobility Ecosystempartner:
Inova Semiconductors Ecosystem-Partner
[ 22. Dezember 2024 ] Samsung: 10-µF-MLCC im 0603-Gehäuse News
[ 22. Dezember 2024 ] Studie zu Fortschritten bei der Festkörperelektrolyttechnik Technologie-Radar
[ 21. Dezember 2024 ] Milliarden-Subventionen für die US-Halbleiterproduktion Branchen-News
[ 20. Dezember 2024 ] Bitsensing: Kooperation mit NXP bei skalierbaren Radarsystemen geplant Branchen-News
[ 20. Dezember 2024 ] Mit KI schneller zu effizienterer Autodesigns Technologie-Radar
[ 20. Dezember 2024 ] Infineon und EVE Energy: Partnerschaft für Batteriemanagement-Lösungen Branchen-News

Neues Lithografieverfahren ermöglicht Strukturen mit Auflösung von 5 nm

14. August 2024

Forschende des Paul Scherrer Instituts PSI nutzen indirekte Belichtung und haben so die Standard-EUV-Lithografie weiterentwickelt. […]

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